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会议论文
微光学元件光刻工艺对焦方法研究
微光学元件光刻工艺对焦方法研究
来源 :五省一市光学学会联合年会暨十三省市光学学会联合年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hui8554974
【摘 要】
:
在光刻工艺的图形转印过程中,像平面位置的确定是重要的环节.本文对对焦方法进行了研究,确定了几种可行的方法,并用其对北京化学试剂研究所生产的BP-218紫外正型光刻胶的分辨
【作 者】
:
刘智怀
龚勇清
李平贵
【机 构】
:
南昌航空大学自动化学院,江西,南昌,330063
【出 处】
:
五省一市光学学会联合年会暨十三省市光学学会联合年会
【发表日期】
:
2008年9期
【关键词】
:
微光学元件
光刻工艺
像平面位置
光刻胶
图形转印
分辨率
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在光刻工艺的图形转印过程中,像平面位置的确定是重要的环节.本文对对焦方法进行了研究,确定了几种可行的方法,并用其对北京化学试剂研究所生产的BP-218紫外正型光刻胶的分辨率进行了测试,得到了不错的结果.
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