【摘 要】
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本文对用激光沉积法(PLD)制备的沉积在SrTiO的沿[100]斜切5°单晶基片上的YBaCuO(YBCO)的多层膜及基底和薄膜的界面,进行了高分辨透射电镜(HRTEM)观察和分析.对激光脉冲频率
【机 构】
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北京大学,物理系,物理楼,电子显微镜实验室
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本文对用激光沉积法(PLD)制备的沉积在SrTiO<,3>的沿[100]斜切5°单晶基片上的YBa<,2>Cu<,3>O<,7>(YBCO)的多层膜及基底和薄膜的界面,进行了高分辨透射电镜(HRTEM)观察和分析.对激光脉冲频率分别为6Hz和1Hz斜切基片的台阶缺陷对薄膜晶体完整性的影响进行了分析;脉冲频率为1Hz的薄膜的生长模式为经过台阶的调整的层流生长,之后经过15nm的岛状生长,过渡到层状生长,但不能摆脱生长起伏涨落的影响;脉冲频率为6Hz薄膜的岛状生长的尺寸小,分布密集,膜的生长模式为mosaic的快速堆跺生长模式.HRTEM明确显示出YBCO外延薄膜的生长速度对样品微结构的影响.
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