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利用LB和膜转移技术构筑了大面积高质量的PS单层模板。在此模板的基础上结合NSL-MACE技术构筑了尺寸可调的Si纳米柱阵列结构。这种NSL-MACE技术可在光电器件中有很好的应用。
具有增强的抗反射性能的大面积尺寸可调的Si纳米柱阵列结构的构筑
【摘 要】
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利用LB和膜转移技术构筑了大面积高质量的PS单层模板。在此模板的基础上结合NSL-MACE技术构筑了尺寸可调的Si纳米柱阵列结构。这种NSL-MACE技术可在光电器件中有很好的应
【机 构】
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河南大学特种功能材料重点实验室,河南开封,475004
【出 处】
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中国化学会第30届学术年会
【发表日期】
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2016年期
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