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会议论文
TM/RE非晶多层膜的晶化温度
TM/RE非晶多层膜的晶化温度
来源 :第六届全国典型零件热处理学术及技术交流会第三届全国热处理学会物理冶金学术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:y871655121
【摘 要】
:
通过非晶多层膜中组元的空位形成焓△H〈’am〉计算了非晶多层膜界面混合区的晶化温度,得出非晶多层膜的完全晶化温度与Fe/Y(Dy)界面混合区的晶化温度相近。另外非晶多层膜低温下(<575K)晶化源于
【作 者】
:
李胜利
罗绍伟
田文卫
梁世英
【机 构】
:
山东工业大学材料学院
【出 处】
:
第六届全国典型零件热处理学术及技术交流会第三届全国热处理学会物理冶金学术交流会
【发表日期】
:
2000年期
【关键词】
:
非晶
多层膜界面
晶化温度
混合区
界面扩散
形成焓
原子
空位
计算
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通过非晶多层膜中组元的空位形成焓△H〈’am〉计算了非晶多层膜界面混合区的晶化温度,得出非晶多层膜的完全晶化温度与Fe/Y(Dy)界面混合区的晶化温度相近。另外非晶多层膜低温下(<575K)晶化源于原子表面和界面扩散。
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