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氧化锌薄膜作为一种多用途的半导体材料，一直受到国内外学术界的广泛关注，高质量的ZnO 薄膜在光电子技术中将得到广泛的应用。本文利用磁控溅射方法制备了性能较好的 ZnO 薄膜，通过改变各种工艺因素，从而改变薄膜生长参数，讨论生长参数对薄膜晶体结构的影响。
磁控溅射工艺影响氧化锌薄膜的晶体结构研究
【摘 要】
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氧化锌薄膜作为一种多用途的半导体材料，一直受到国内外学术界的广泛关注，高质量的ZnO 薄膜在光电子技术中将得到广泛的应用。本文利用磁控溅射方法制备了性能较好的 ZnO 薄膜，
【机 构】
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上海理工大学光电学院,上海,200093
【出 处】
：
第五届全国光子学大会
【发表日期】
：
2004年期
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