不同气氛下Tl-1223超导薄膜的生长研究

来源 :第九届全国超导薄膜和超导电子器件学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：liongliong512

【摘要】

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研究了在氧气(O2)和氩气(Ar)环境中Tl-1223超导薄膜在LaAlO3(001)基片上生长情况.实验发现,在氧气下930℃和氩气下830℃进行热处理,都可以得到Tl-1223高温超导薄膜.但是在两

【作者】

：

季鲁阎少林谢清连张畅张旭周铁戈左涛何明赵新杰方兰

【机构】

：

南开大学信息技术科学学院电子信息科学与技术系,天津,300071

【出处】

：

第九届全国超导薄膜和超导电子器件学术会议

【发表日期】

：

2006年7期

【关键词】

：

超导薄膜薄膜生长热处理工艺

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研究了在氧气(O2)和氩气(Ar)环境中Tl-1223超导薄膜在LaAlO3(001)基片上生长情况.实验发现,在氧气下930℃和氩气下830℃进行热处理,都可以得到Tl-1223高温超导薄膜.但是在两种气氛中得到Tl-1223高温超导薄膜形态却存在着一些区别.Tl-1223超导薄膜在O2和Ar环境下的转变温度Tc,分别为111K和107K.

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