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会议论文
钛及钛合金表面“活性膜”的生成和直接电镀工艺研究
钛及钛合金表面“活性膜”的生成和直接电镀工艺研究
来源 :2003年国际轻金属表面精饰技术论坛 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Leichenglin8888
【摘 要】
:
介绍了钛(TA2)及钛合金(TC4)经活化处理,生成“活性膜”的工艺,通过电子能谱分析确定了“活性膜”生成机理及在“活性膜”上直接电镀的可行性。
【作 者】
:
张景双
杨哲龙
安茂忠
屠振密
【机 构】
:
哈尔滨工业大学 150001
【出 处】
:
2003年国际轻金属表面精饰技术论坛
【发表日期】
:
2003年期
【关键词】
:
钛合金表面
活性膜
生成机理
直接电镀
电子能谱分析
活化处理
工艺
TC4
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介绍了钛(TA2)及钛合金(TC4)经活化处理,生成“活性膜”的工艺,通过电子能谱分析确定了“活性膜”生成机理及在“活性膜”上直接电镀的可行性。
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