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大面积均匀纳米金刚石薄膜制备研究

来源 :第六届全国激光科学技术青年学术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：sm2998

【摘 要】

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本文报道了一种利用偏压恒流等离子辅助热丝化学气相沉积方法在硅基板制备大面积均匀纳米金刚石薄膜的新工艺,在不同沉积条件下研究了纳米金刚石薄膜的成核和生长过程,并通过

【作 者】

：

龚辉[1]范正修[1]姜辛[2]C.P.Klages[2] 

【机 构】

：

上海光学精密机械研究所(上海)

【出 处】

：

第六届全国激光科学技术青年学术交流会

【发表日期】

：

2001年期

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本文报道了一种利用偏压恒流等离子辅助热丝化学气相沉积方法在硅基板制备大面积均匀纳米金刚石薄膜的新工艺,在不同沉积条件下研究了纳米金刚石薄膜的成核和生长过程,并通过扫描电镜、喇曼光谱和表面粗糙度测试仪观察了纳米金刚石薄膜的结构特征.最后成功地制备了直径100毫米、平均晶粒尺寸10纳米的光滑纳米金刚石薄膜.

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