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本文主要介绍了离子源在真空加工领域的现状。基于常见的栅网型离子源,我们分别介绍了直流离子源和射频离子源的工作基本原理。介绍了这两类型离子源各自的优缺点。从理论上介绍栅网型离子源的特性。根据栅网型离子源精确可控的优点,我们分别介绍了这种离子源三个领域的应用。这三个领域是:离子束溅射镀膜沉积、离子束刻蚀和离子束表面修形。对这三种应用分别做了简单的工作原理介绍和应用前景介绍。