【摘 要】
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目的：结合合成工艺分析美索巴莫的杂质谱,并研究其可能的降解途径.方法：采用HPLC 法测定样品及经酸、碱、氧化、光、热等强制破坏试验和高温、高湿、光照等影响因素试验后
【机 构】
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浙江省食品药品检验研究院,杭州 310004
【出 处】
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2012年中国药学大会暨第十二届中国药师周
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目的：结合合成工艺分析美索巴莫的杂质谱,并研究其可能的降解途径.方法：采用HPLC 法测定样品及经酸、碱、氧化、光、热等强制破坏试验和高温、高湿、光照等影响因素试验后的样品.结果：美索巴莫在高温(60℃)、高湿(RH92.5％)和光照(4500Lx)条件下基本稳定；在碱强制破坏试验条件下易水解,在酸、碱、热等强制破坏试验条件下易发生重排反应,在氧化、光等强制破坏试验条件下基本稳定.结论：美索巴莫样品中的主要杂质为愈创木酚甘油醚和3-(2-甲氧苯氧基)-1,2-丙二醇-2-氨甲酸酯；潜在的降解途径为酯键的水解及重排.
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