随着高新技术产业的兴起,高纯稀土金属及合金靶材在国防军工及新能源汽车、集成电路、新型显示、5G通讯等领域不断得到新的应用,成为高新技术产业发展不可或缺的关键材料。高端电子元器件应用领域对稀土金属及合金靶材的纯度、内部微观结构等方面都设定了极其苛刻的标准。然而,稀土金属活性、熔点高、塑性差,靶材制备过程纯度控制及塑性变形加工困难,其加工制备难度非常大,国内在靶材生产技术、设备、产品尺寸及质量与发达国家存在较大差距,制约了我国稀土新材料的原始创新及高端应用领域发展。经过近10年的攻关,我国已拥有4N级高纯稀土金属原料批量能力,具备了集成电路用高纯稀土溅射靶材开发的必要条件,有研稀土新材料股份有限公司在国家重点研发计划"微纳电子制造用超高纯稀土金属及靶材"等项目支持下,突破了电子信息等用稀土金属及合金靶材相关共性关键技术,自主开发出稀土金属和靶材产业化制备技术及多台套专用生产装备。率先实现了高性能钕铁硼晶界扩散用铽/镝靶材的规模生产,市场占有率高达90%;自主研发的电子信息用钇、铒等金属靶材及OLED用高纯镱蒸发料的纯度大于4N(60种杂质元素总量小于100 ppm)、铝钪合金靶材钪含量大于15%、尺寸达到300mm以上,并在国外知名企业实现应用,为我国集成电路、5G通讯器件等新一代信息产业提供了核心材料保障。