【摘 要】
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文中介绍了实验室发展的连续非球面微透镜列阵成形与面形控制的新进展.通过研究光致抗蚀剂材料的特性,实验标定特征参数,使掩模移动函数得到优化,有效地控制了工艺过程中的主
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都,610209
【出 处】
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2007年中俄衍射光学技术高端研讨会
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文中介绍了实验室发展的连续非球面微透镜列阵成形与面形控制的新进展.通过研究光致抗蚀剂材料的特性,实验标定特征参数,使掩模移动函数得到优化,有效地控制了工艺过程中的主要非线性影响,显著提高了面形控制精度.研究成功大浮雕深度、大数值孔径连续非球面微透镜列阵,并在实际系统中得到应用.并在此基础上,提出了非周期掩模函数构建编码方法及移动滤波技术,实现了不规则连续面形微纳结构成形.给出了微列阵光学元件性能分析与测试结果。
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