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在大气压下,以六甲基二硅氧烷为单体,四氟化碳为辅助气体,用冷等离子弧制备SiOx薄膜。通过傅立叶外(FTIR)定性分析,比较了冷等离子弧离样品高度、单体输入量、聚合时间等对聚合膜的影响。并与等离子体枪进行DBD放电聚合进行比较分析。
在大气压下用冷等离子弧聚合SiOx薄膜研究
【摘 要】
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在大气压下,以六甲基二硅氧烷为单体,四氟化碳为辅助气体,用冷等离子弧制备SiOx薄膜。通过傅立叶外(FTIR)定性分析,比较了冷等离子弧离样品高度、单体输入量、聚合时间等对聚
【机 构】
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北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室,等离子体物理与材料研究室,北京,102600
【出 处】
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第7届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛
【发表日期】
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2008年期
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