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通过直流溅射法在Co基非晶薄带(Co66Fe4NiSi15B14)上制备不同厚度的CoFe薄膜层，观察其巨磁阻抗效应(GMI)在120kHz～3MHz频率范围内随外加磁场的变化。实验结果显示：在Co基非晶薄带上涂覆CoFe薄膜，可以提高薄带的GMI效应。研究发现，当趋肤效应显著时材科表面租糙度对GMI效应有较大影响。通过在Co基非晶薄带表面镀膜的方式降低样品表面粗糙度，减小表面退磁场的影响，并且闭合样品磁通回路，从而提高样品GMI效应。