论文部分内容阅读
本文介绍了本实验室铝电极箔增容技术中高介电常数复合氧化膜制备技术的最新研究成果,分析了水解沉积制备高介电常数铝复合氧化膜低压增容效果甚微的原因,提出了通过通过Si搀杂提高高介电常数铝复合氧化膜耐压强度的增容技术思想.研究发现,Si搀杂铝复合氧化膜制备技术不仅可实现低电压规格国产铝电极箔比容水平的提高,同时可有效降低高介电常数铝复合氧化膜的漏电流,具有良好的推广应用价值.