【摘 要】
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The analysis here predicts the net electron emission current as a function of bias voltage for a plasma source that is being used as the cathodic element in a bare electrodynamic tether system.A spher
【机 构】
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School of Aerospace Engineering, Beijing Institute of Technology, Beijing, China ; CEPPE, School of
【出 处】
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第十六届全国等离子体科学技术会议暨第一届全国等离子体医学研讨会
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The analysis here predicts the net electron emission current as a function of bias voltage for a plasma source that is being used as the cathodic element in a bare electrodynamic tether system.A spherical, steady-state model that considers the collisionless plasma plume expansion process on the operation of electron-emission is developed.
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引言大气压放电等离子体磁流体动力学(MHD)在能量旁路与流动控制等方面具有潜在的应用价值,尤其在超燃发动机方面有望获得实际应用,所以目前正受到越来越大的关注,成为一个非常热门的研究领域.
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CVD沉积金刚石膜是一种具有优异的光学、热学、机械性能及化学惰性的功能材料,能够满足众多领域的应用要求.在采用MPCVD沉积金刚石中等离子体中基团种类、分布及作用机理对薄膜质量的影响至关重要.发射光谱法作为一种便捷、高效、无干扰的等离子体诊断方法,适合用于等离子体的在线诊断分析.
引言磁控放电技术广泛地应用于薄膜沉积领域中,其一般施加几百高斯的磁场约束电子进而提高等离子体密度.传统的直流磁控等离子体因只能溅射金属靶材在许多领域中受到限制,射频磁控放电技术则有效地改善了这一弊端.近些年来,随着薄膜材料日新月异地发展以及半导体材料薄膜的大量需求,反应性气体如O2,C12等作为工艺气体得到了广泛地关注.因此,针对射频磁控Ar/O2混合等离子体的模拟工作显得尤其必要.
在冶金工业中,钢铁表面处理是一道必须工艺.钢铁刚出炉时,表面会紧紧依附着一薄氧化层.通常将钢铁表面氧化层除去的工艺称为除鳞.目前工业中主要使用的除鳞工艺有机械除鳞(喷丸、磨料、高压水等)和酸洗两种方法.前者是利用动能的机械方法,而酸洗是化学方法.这些方法除了除鳞不干净或耗时长外,带来最大的问题就是环境的二次污染,包括化学污染、尘埃和噪声等.
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