【摘 要】
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纳米压印技术是不使用光线或者辐照使光刻胶感光成形,而是直接在硅衬底或者其它衬底上利用物理学的机理构造纳米尺寸图形.其优点是工艺流程简单,精度高,可以大大减少器件制备时间,为以后大量生产提供了可能性.本论文采用硅模板,利用纳米压印技术制备出基于PMMA基底的全聚合物光波导器件.波导上包层材料为NOA63紫外固化胶,波导芯层材料为NOA88紫外固化胶,对制备出的全聚合物光波导测试获得了近场输出光斑.
【机 构】
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集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区,吉林省光通信用聚合物波导器件工程实验室,吉林大学电子科学与工程学院,长春,130012
【出 处】
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第八届全国塑料光纤与聚合物光子学会议
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纳米压印技术是不使用光线或者辐照使光刻胶感光成形,而是直接在硅衬底或者其它衬底上利用物理学的机理构造纳米尺寸图形.其优点是工艺流程简单,精度高,可以大大减少器件制备时间,为以后大量生产提供了可能性.本论文采用硅模板,利用纳米压印技术制备出基于PMMA基底的全聚合物光波导器件.波导上包层材料为NOA63紫外固化胶,波导芯层材料为NOA88紫外固化胶,对制备出的全聚合物光波导测试获得了近场输出光斑.
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