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纳米Ｓｉ<,3>Ｎ<,4>颗粒分布的Ｘ射线沉降法测定及适宜分散工艺条件探讨
【机 构】
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清华大学
【出 处】
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’94全国结构·功能陶瓷·金属/陶瓷封接学术会议
【发表日期】
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1994年期
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