【摘 要】
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光学镀膜的关键技术是准确监控膜厚，以期监控薄膜的光学特性。针对通用镀膜仪膜厚控制稳定性和精度不高、自动化程度低的状况，研究了全新的光电控制分析系统.提出四光束光电测
【机 构】
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西安工业学院数理系，陕西西安 710032 西安交通大学理学院，陕西西安 710049
【出 处】
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2006全国光电子与光电信息技术学术研讨会
论文部分内容阅读
光学镀膜的关键技术是准确监控膜厚，以期监控薄膜的光学特性。针对通用镀膜仪膜厚控制稳定性和精度不高、自动化程度低的状况，研究了全新的光电控制分析系统.提出四光束光电测试系统，采用双锁相电路系统和复合滤波的综合数字处理系统进行镀膜信号处理，并通过控制分析系统实现监控。测试结果表明，反映膜厚控制重复性的膜厚标准偏差小于0.55％反射率显示分辨极限为0.02％系统漂移的线性程度很高，静态漂移率接近0.新系统极大地提高了光学薄膜厚度监控系统的静态、动态稳定性和膜厚控制精度，膜厚监控的整体性能指标比较高。
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