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会议论文
SU-8扩散片光刻工艺研究
SU-8扩散片光刻工艺研究
来源 :第七届全国塑料光纤与聚合物光子学会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ysgmxh
【摘 要】
:
基于标准的接触式光刻工艺,利用扩散片将平行照射的紫外光散射,制备了宽度为4μm~15μm的凹槽,具有半圆弧、双圆弧以及工形等截面结构和良好的形貌。详细研究了曝光时间和凹
【作 者】
:
李若舟
张彤
张晓阳
朱圣清
李威
杨代旭
屈蓓蓓
【机 构】
:
东南大学电子科学与工程学院,江苏 南京 210096
【出 处】
:
第七届全国塑料光纤与聚合物光子学会议
【发表日期】
:
2011年期
【关键词】
:
SU-8
扩散片
光刻工艺
制备工艺参数
凹槽
双圆弧
曝光时间
宽度对
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基于标准的接触式光刻工艺,利用扩散片将平行照射的紫外光散射,制备了宽度为4μm~15μm的凹槽,具有半圆弧、双圆弧以及工形等截面结构和良好的形貌。详细研究了曝光时间和凹槽宽度对凹槽截面形态的影响。给出了不同横截面图形的制备工艺参数。
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