【摘 要】
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<正> 用电镀去制备Ni-Fe合金薄膜作为磁性材料己经得到了广泛的应用,调节镀液的成份可获得不同合金比率、不同磁性能的合金膜层。如Ni80Fe20的合金膜其Bs在0.9～1.0T左右,电阻
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<正> 用电镀去制备Ni-Fe合金薄膜作为磁性材料己经得到了广泛的应用,调节镀液的成份可获得不同合金比率、不同磁性能的合金膜层。如Ni80Fe20的合金膜其Bs在0.9～1.0T左右,电阻率（ρ）为20～25μΩ.cm,由于它的Bs和ρ较低,在高密度磁记录中NiFe合金的应用受到了限制。因此,为了满足在高密度磁记录中的应用,己研究了多种制备高Bs的薄膜材料方法并在实践中获得了应用。如电沉积CoNiFe薄膜、CoFe基薄膜,溅射Fe基纳米晶薄膜,溅射Fe-N基薄
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