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采用光刻和反应离子刻蚀技术制备出了聚合物薄膜光波导，其波导芯层截面为８μｍ宽ｘ４μｍ高。
聚合物薄膜光波导的研制
【摘 要】
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采用光刻和反应离子刻蚀技术制备出了聚合物薄膜光波导，其波导芯层截面为８μｍ宽ｘ４μｍ高。
【机 构】
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部武汉邮电科学研究院
【出 处】
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全国第8次光纤通信暨第9届集成光学学术会议
【发表日期】
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1997年期
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