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本文提出了一种具有三维凸起结构的柔性神经微电极的制作工艺和方法。该方法采用光敏型聚酰亚胺(Dunmide 7510)作为微电极的基质材料，通过湿法刻蚀、光刻、lift-off、电化学释放等工艺制成具有塔形凸起结构的微电极阵列。相对于传统的平面微电极阵列，三维凸起微电极阵列既保证了微电极刺激位点与神经细胞的良好接触，同时也增加了电极刺激位点表面积，从而提高微电极刺激效果。