高纯合金中O、N、H元素分析技术研究

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通常金属材料中的O、N、H元素的分析属于常量分析,较易掌握.但对于高纯金属来讲,由于其O、N、H元素含量较低,空白值不易控制,若方法不合适,会导致结果不稳定.本文通过使用力可的TC436AR与RH404气体分析仪对分析过程中空白值的控制进行了研究,从而在对高纯合金中较低含量的O、N、H元素进行分析时,可以得到稳定而准确的结果.对于各实验室在进行相似检测时提供借鉴.通过适当调整加热功率可以使0元素的空白值保持在一个比较低的水平;在保证了仪器的稳定性后,N的空白值通常会小于0.00005%,通过多次空烧空白后,定氢仪的空白值会在经过几次的空烧试验后,达到可以忽略的地步。在控制了各个空白值的波动后,试样的分析精度比较满意,可以满足μg/g级的O,N,H元素的分析任务。
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