磁控溅射法制备类金刚石薄膜的摩擦磨损性能研究

来源 :2009全国青年摩擦学学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yuanchonghuanca
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采用磁控溅射技术在单晶硅衬底上沉积Ti、Cr、C类金刚石薄膜,用原子力显微镜(AFM)和俄歇能谱仪(AES)表征薄膜的微观形貌和成分分布,用纳米压痕仪测定薄膜的硬度和弹性模量,并用UMT型摩擦磨损试验机考察了薄膜在不同试验条件下同GCr15钢球时磨时的摩擦磨损性能。结果表明:所制备的类金刚石薄膜表面光滑致密,元素呈梯度分布且硬度较高;在干摩擦条件下薄膜的摩擦系数较高,却具有较好的抗磨损性能,磨损率在10-8mm3/N·m数量级,而水润滑务件下薄膜的磨损加剧,磨损率迅速上升至10-7mm3/N·m教量级。在油润滑条件下,薄膜具有良好的抗磨减摩性能,摩擦系数达0.07,磨损量仅为1.58×10-9mm3/N·m。
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