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利用RF等离子溅射法制备的膜有很多优点,如溅射过程中不依赖材料的蒸气压,不受污染,而且材料消耗少,制出的膜纯度较高,均匀性好,机械性能好,针眼少。但它也存在一些缺点,如收集效率比较低,制备厚靶比较困难,同时也会受到来自真空泵油中炭污染的影响。在他们在RF等离子溅射装置中,为了提高收集效率,在等离子柱外加了一个磁场,场强在柱中心约50高斯,把等离子约束在较小的空间,提高了收集效率,另外在高真空泵及真空室之间装上了冷却系统,把炭的污染减少到最低程度。在上述改进条件下,他们分别利用Ar及Ar-N〈,2〉(1:1)混合气体作工作气体,制备了较好的铁膜及铁氮化合物的膜。通过穆斯堡尔测量表明,在纯的Ar工作气体下所获得的是较好的α-Fe。在Ar-N〈,2〉(1:1)条件下获得了ZnS和NaCl结构的铁氮化合物。预期可通过改变Ar和N〈,2〉的比例,获得不同氮化物相。