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利用ＲＦ等离子溅射法制备的膜有很多优点，如溅射过程中不依赖材料的蒸气压，不受污染，而且材料消耗少，制出的膜纯度较高，均匀性好，机械性能好，针眼少。但它也存在一些缺点，如收集效率比较低，制备厚靶比较困难，同时也会受到来自真空泵油中炭污染的影响。在他们在ＲＦ等离子溅射装置中，为了提高收集效率，在等离子柱外加了一个磁场，场强在柱中心约５０高斯，把等离子约束在较小的空间，提高了收集效率，另外在高真空泵及真空室之间装上了冷却系统，把炭的污染减少到最低程度。在上述改进条件下，他们分别利用Ａｒ及Ａｒ－Ｎ〈，２〉（１：１）混合气体作工作气体，制备了较好的铁膜及铁氮化合物的膜。通过穆斯堡尔测量表明，在纯的Ａｒ工作气体下所获得的是较好的α－Ｆｅ。在Ａｒ－Ｎ〈，２〉（１：１）条件下获得了ＺｎＳ和ＮａＣｌ结构的铁氮化合物。预期可通过改变Ａｒ和Ｎ〈，２〉的比例，获得不同氮化物相。