【摘 要】
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建立了基于积分球和光栅单色仪的光谱反射比测量装置用于光谱发射率的间接测量。通过测量近似0-d 条件下的光谱反射比确定漫射样品的法向光谱发射率。发射率测量装置可用于2～1
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建立了基于积分球和光栅单色仪的光谱反射比测量装置用于光谱发射率的间接测量。通过测量近似0-d 条件下的光谱反射比确定漫射样品的法向光谱发射率。发射率测量装置可用于2～15 μm波长范围,温度为室温～200℃的漫射样品半球光谱反射比测量。装置采用硅碳棒作为辐射源,利用镀金积分球和碲镉汞光电探测器测量样品在半球方向的反射辐射。光斩波器和锁相放大器被用于调制单色投射辐射和测量探测器信号输出,并采用统计测量方法提高测量准确度水平。装置的光学系统经特别设计和实验验证以消除杂散光对测量结果的影响。利用反射比测量装置,对自制的氧化不锈钢漫射样品半球光谱反射比进行了测量。
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