系列光刻胶材料的制备与性质

来源 :中国感光学会2018年学术年会暨第九届六次理事会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ufs2269acjx
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  本文简单介绍了近年来我们在光刻胶研究领域做的部分工作,主要包括:1.i-线正胶、负胶及厚膜光刻胶;2.248-nm 正胶、负胶及厚膜光刻胶;3.光敏聚酰亚胺正型光刻胶;4.有机溶剂显影的紫外正性厚膜光刻胶(类似SU-8 光刻胶);5.纳米压印光刻胶;6.抗反射底涂层材料.这些光刻胶材料都是从感光成像的原理出发,进行不同的分子设计得到成膜树脂材料,再引入感光性基团或与其它光敏物质一起组合得到.包括常规的重氮萘醌体系和化学增幅体系光刻胶.这些不同类型的光刻胶材料在感度、分辨率、留膜率等感光成像表现上与国内普遍使用的进口产品相当,具有很好的产业化前景.
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