光学干涉计量是基于光波叠加原理，分析处理干涉场中亮暗变化的条纹或其灰度变化来获取被测量的有关信息的测量技术。当把被测量引入干涉仪的一支光路中，干涉仪光路中的光程差将发生变化，干涉条纹也随之变化。通过测量干涉条纹的变化量，可以获得与介质折射率和几何光程有关的各种物理量。波长量级的灵敏度分析必然要借助于干涉现象，且干涉法具有条纹稳定，分辨率高，便于理解和分析，可记录等优点而得到广泛应用。文章介绍了平面干涉仪的改造工作和在此基础上对光学元件表面检测的应用。通过对一般平面干涉仪光路上的改进，使得测量灵活性和便携性得到较大提高，再进一步通过分析得到了光学元件前后表面的平行度及表面粗糙度有关的信息。对于类似的光学元件的表面检测或评价均可参照本文提出的光路和观点。下图显示了较好及较差平面的光学元件在干涉仪中的前后表面干涉等厚图样，条纹笔直且均匀分布的为佳(前者)，而由于表面粗糙度较大，使得条纹弯曲为次(后者)。