基体清洗法测定CeO2在载体γ-Al2O3表面的分散阀值

来源 :2006年全国冶金物理化学学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：judy5752

【摘要】

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CeO2在γ-Al2O3载体表面分散阀值的确定对于提高CeO2的利用率具有重要的现实意义.用浸渍法制备了CeO2/γ-Al2O3催化剂,XRD分析表明随着负载量的增加,CeO2的衍射峰强度也随之

【作者】

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郁青春王新东张世超

【机构】

：

北京科技大学冶金与生态学院,北京,100083

【出处】

：

2006年全国冶金物理化学学术会议

【发表日期】

：

2006年期

【关键词】

：

基体清洗法测定载体表面分散衍射峰强度单层分散阀值时间影响浸渍稳定性利用率负载量分析表催化剂重叠选取物质计算法制

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CeO2在γ-Al2O3载体表面分散阀值的确定对于提高CeO2的利用率具有重要的现实意义.用浸渍法制备了CeO2/γ-Al2O3催化剂,XRD分析表明随着负载量的增加,CeO2的衍射峰强度也随之增加.选取衍射峰不与CeO2衍射峰重叠且具有良好的稳定性的NiO作为参比物质,用基体清洗法计算CeO2的单层分散阀值为0.125 g/g(γ-Al2O3),浸渍时间影响单层分散阀值的大小.

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