【摘 要】
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利用自组装成膜技术制备ZrO薄膜.应用接触角测定仪、X射线光电子能谱仪、原子力显微镜分析表征了薄膜的组成和结构.结果表明,通过硅烷偶联剂3-巯丙基-三甲氧基硅烷在单晶硅基底表面的成功组装,获得了较为均匀的硅烷化表面,而ZrO纳米微粒可以通过静电吸引力在磺酸化的自组装薄膜表面成功地进行组装从而获得ZrO薄膜.结果发现淀积在基片上的ZrO薄膜比较致密、均匀且牢固性好.摩擦磨损实验表明:利用该方法制备的
【机 构】
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中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室(甘肃兰州)
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利用自组装成膜技术制备ZrO<,2>薄膜.应用接触角测定仪、X射线光电子能谱仪、原子力显微镜分析表征了薄膜的组成和结构.结果表明,通过硅烷偶联剂3-巯丙基-三甲氧基硅烷在单晶硅基底表面的成功组装,获得了较为均匀的硅烷化表面,而ZrO<,2>纳米微粒可以通过静电吸引力在磺酸化的自组装薄膜表面成功地进行组装从而获得ZrO<,2>薄膜.结果发现淀积在基片上的ZrO<,2>薄膜比较致密、均匀且牢固性好.摩擦磨损实验表明:利用该方法制备的ZrO<,2>薄膜经500℃烧结处理后适于在低负荷、低滑动速度下作为减摩、抗磨保护性涂层.
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利用机械合金化法制备的MgNi纳米储氢材料,分析在高能球磨过程中该材料的相变、结构、晶粒度及表面形貌等的变化,探讨了球磨时间、转速等工艺条件对纳米晶形成的影响作用.
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以硝酸氧锆、硝酸钇为原料采用硬脂酸法制备3mol﹪钇稳定的氧化锆(YSZ)纳米粉体,X-射线衍射(XRD)分析表明所制的YSZ粉体为四方晶相,透射电子显微镜(TEM)观察表明900℃热处理2h后YSZ粉体的平均粒径约为20nm.以聚丙烯酸铵(PAANH)为分散剂,将所制备的纳米YSZ粉体分散后制备成稳定的悬浮液,通过浸浆成膜采用固态粒子烧结法制备YSZ膜,氮气吸附实验表明YSZ膜的最可几孔直径为8
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