X-射线光刻机中应用的精密定位工作台

来源 :航空精密制造技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sychf1
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为适应超大规模集成电路器件的发展,微电路图形的特征线宽愈来愈细的特点,发展了电子束光刻及X射线光刻,而X射线光刻由于其极高的分辨率,对未来的大规模集成电路器件的制作具有很大的应用潜力。随之而来的是要有高精度的定位工作台,以保证高套刻精度的要求。 In order to adapt to the development of VLSI devices, the feature lines of microcircuit patterns are getting smaller and smaller. Electron beam lithography and X-ray lithography have been developed. Because of its extremely high resolution, X-ray lithography The future of large-scale integrated circuit device production has great potential applications. Followed by the need to have high-precision positioning table, in order to ensure high precision engraving requirements.
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