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IE通讯技术在Low-E镀膜线的应用
IE通讯技术在Low-E镀膜线的应用
来源 :2015年中国玻璃行业年会暨技术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yangnever
【摘 要】
:
为解决Low-E真空磁控溅射镀膜线现场繁杂的控制信号,大量应用了现场总线技术,特别是工业以太网。本文从系统需求着手,重点介绍了分子泵控制部分的IE技术,在保证系统稳定的前
【作 者】
:
梁忠
韩全寿
【机 构】
:
中国南玻集团 广东深圳 518067
【出 处】
:
2015年中国玻璃行业年会暨技术研讨会
【发表日期】
:
2015年期
【关键词】
:
通讯技术
磁控溅射镀膜
现场总线技术
工业以太网
系统需求
系统稳定
控制信号
控制部分
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为解决Low-E真空磁控溅射镀膜线现场繁杂的控制信号,大量应用了现场总线技术,特别是工业以太网。本文从系统需求着手,重点介绍了分子泵控制部分的IE技术,在保证系统稳定的前提下,最大可能降低了现场信号线的敷设,降低了接线故障率和设备成本。
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