NiNbO薄膜的制备及光催化降解性能的研究

来源 :2004年中国材料研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:niubisile
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应用磁控溅射技术的陶瓷基片和玻璃基片上分别制备了NiNb<,2>O<,6>和TiO<,2>光催化薄膜.利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、UV-VIS-NIR分光光度计等手段对薄膜的结构进行了分析,采用光催化降解染料罗丹明B溶液的方法表征了NiNb<,2>O<,6>和TiO<,2>薄膜的光催化性能.在溅射气压2Pa和沉积时间4h条件下,得到光催化性能很好的NiNb<,2>O<,6>薄膜.玻璃基片上NiNb<,2>O<,6>薄膜的光催化性能要明显优于陶瓷基片上该薄膜的光催化性能.
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