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介绍了衰减相移掩模用于提高光刻分辨率的原理，给出了结构形式，介绍了与传统Ｃｒ掩模制作工艺相兼容的单层衰减相移掩模的制作方法，提供了部分实验结果。
用衰减相移掩技术改善光刻质量
【摘 要】
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介绍了衰减相移掩模用于提高光刻分辨率的原理，给出了结构形式，介绍了与传统Ｃｒ掩模制作工艺相兼容的单层衰减相移掩模的制作方法，提供了部分实验结果。
【机 构】
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院光电所微细加工光学技术国家重点实验室(成都)
【出 处】
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第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会
【发表日期】
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1999年期
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