【摘 要】
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利用中频交流磁控溅射方法采用氧化锌铝(98﹪ZnO+2﹪AlO)陶瓷靶材制备了ZAO(ZnO:Al)薄膜,考察了基体温度和工作气压对ZAO薄膜的晶体结构、电学和光学性能的影响,利用X射线衍射仪和原子力显微镜对薄膜的结构和形貌进行了分析,利用分光光度计和电阻测试仪测量了薄膜的光学、电学特性,利用霍尔测试仪测量了薄膜的载流子浓度和霍尔迁移率.结果表明:沉积薄膜时的基体温度和工作气压对薄膜的结构、结晶状
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利用中频交流磁控溅射方法采用氧化锌铝(98﹪ZnO+2﹪Al<,2>O<,3>)陶瓷靶材制备了ZAO(ZnO:Al)薄膜,考察了基体温度和工作气压对ZAO薄膜的晶体结构、电学和光学性能的影响,利用X射线衍射仪和原子力显微镜对薄膜的结构和形貌进行了分析,利用分光光度计和电阻测试仪测量了薄膜的光学、电学特性,利用霍尔测试仪测量了薄膜的载流子浓度和霍尔迁移率.结果表明:沉积薄膜时的基体温度和工作气压对薄膜的结构、结晶状况、可见光透过率以及导电性有较大的影响.当基体温度为250℃,氩气分压为0.8Pa时,薄膜的电阻率最低,为4.6×10<-4>Ω·cm,方块电阻为32Ω时,可见光(γ=550nm)透过率高达91.8﹪.
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介绍了一种新型超硬薄膜材料-氮化碳(CN)的组成和结构,并对其主要的力学性能,光学性能及应用进行了概述.并综述了氮化碳的反应溅射、化学气相沉积、离子注入、高压合成、激光烧蚀等制备工艺方法.
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