【摘 要】
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原子层沉积(Atomic layer deposition,ALD)是将气态前驱体交替脉冲进反应腔,在基底表面吸附并反应而形成以亚埃级生长的薄层,它可以通过沉积次数精确控制沉积层厚度,并对
【机 构】
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南京工业大学材料化学工程国家重点实验室,南京市新模范马路5号,210009
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原子层沉积(Atomic layer deposition,ALD)是将气态前驱体交替脉冲进反应腔,在基底表面吸附并反应而形成以亚埃级生长的薄层,它可以通过沉积次数精确控制沉积层厚度,并对基底有很好的保形性。[1-3]本实验运用原子层沉积技术沉积聚酰亚胺(polyimide,PI)来实现对聚醚砜(polyethersulfone,PES)微滤膜分离性能的调节,同时提高基膜的机械性能和热稳定性。实验采用场发射扫描电子显微镜、傅里叶红外光谱仪和万能试验机等仪器对沉积前后膜的形貌和性能进行比较。实验结果表明：PI薄层沿着孔壁均匀并保形的生长在PES膜上；随着ALD循环次数的增加,PES膜孔径不断减小,膜的纯水通量减小,并且对单分散的23nm SiO2的截留率明显增加。同时,原子层沉积聚酰亚胺增强了PES膜的机械性能和耐热性能。
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