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首次采用恒电流电沉积方式在P型Si(111)上制备出Ni-W-P合金薄膜。考察了电沉积条件对镀层组成的影响，确定了制备表面致密、具有良好结合力的Ni-W-P合金薄膜的最佳工艺条件。
P型Si上电沉积Ni-W-P合金薄膜
【摘 要】
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首次采用恒电流电沉积方式在P型Si(111)上制备出Ni-W-P合金薄膜。考察了电沉积条件对镀层组成的影响，确定了制备表面致密、具有良好结合力的Ni-W-P合金薄膜的最佳工艺条件。
【机 构】
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天津大学应用化学系
【出 处】
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中国表面工程协会电镀分会第五届年会
【发表日期】
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1998年期
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