【摘 要】
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纳米Ni-Ti薄膜在微电子和微器件制造领域中具有广泛的应用前景,为了得到高质量的纳米薄膜。本文对直流磁控溅射法制备Ni-Ti薄膜工艺进行了研究。采用单晶硅和玻
【机 构】
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哈尔滨工程大学150001哈尔滨工业大学150001
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纳米Ni-Ti薄膜在微电子和微器件制造领域中具有广泛的应用前景,为了得到高质量的纳米薄膜。本文对直流磁控溅射法制备Ni-Ti薄膜工艺进行了研究。采用单晶硅和玻璃两种基体材料,并在不同的基体温度、晶化温度、溅射功率等条件下制备薄膜。之后对薄膜进行了XRD,SEM分析,分析结果表明,薄膜成分、厚度、表面形貌、致密度与溅射功率、基体温度、晶化温度、基体材料密切相关。并根据实验结果给出优化的纳米Ni-Ti薄膜制备工艺。
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