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本文在真空条件下利用真空电弧源在不同基底材料上镀制了 TiO2薄膜。对影响镀膜过程和膜层质量的氧气工作压强和偏压等因素进行了研究。X 射线衍射结构分析结果显示 TiO2薄膜主要以锐钛矿相为主及少量的金红石相。对 TiO2薄膜的物理性质、化学性质进行了初步检测。
真空电弧源镀制TiO<,2>薄膜研究
【摘 要】
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本文在真空条件下利用真空电弧源在不同基底材料上镀制了 TiO2薄膜。对影响镀膜过程和膜层质量的氧气工作压强和偏压等因素进行了研究。X 射线衍射结构分析结果显示 TiO2薄膜
【机 构】
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北京联合大学机电学院
【出 处】
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首届七省区市机械工程学会科技论坛
【发表日期】
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2005年期
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