经电子束辐照诱生硅中位错及其电致发光的研究

来源 :2011年全国硅基光电子材料及器件研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sjk
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本文运用电子束辐照的方法可控地在硅中引入位错,并制备了pn结发光二极管,研究了其低温与室温的电致发光性能。研究表明,经电子束辐照引入的位错分布弥散,呈碎片状。制备的pn结器件在低温具有显著的D1发光,开启电流仅为0.02A/cm2,而D2、D3与D4峰不可见。器件在室温有明显的带边发光与在~1.6 μm的D1电致发光。
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