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该文利用薄膜光学中的导纳特征矩阵提出了一种计算多层结构磁光记录介质光学特性的新方法。它可以用来计算包含有一层或多层磁光薄膜的多层结构磁光记录介质的反射率R、克尔角θ[*vK*]及椭圆度γ[*vK*]，因而这样一种方法对于磁光光盘的优化设计很有意义。利用这种方法，该文给出了具有单层、双层、三层、四层结构的非晶GdFe薄膜的光学特性曲线。（本刊录）