退火温度对射频磁控溅射法生长的MgZnO薄膜性质的影响

来源 :第五届中国功能材料及其应用学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:luther2006
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采用射频磁控溅射的方法在硅衬底上生长出高质量的Mg<,0.16>Zn<,0.84>O薄膜.用X射线(XRD)、原子力显微镜(AFM)分别研究了在200、400、600和800℃下空气中退火2h的Mg<,0.16>Zn<,0.84>O薄膜的结构、表面形貌.结果表明,Mg<,0.16>Zn<,0.84>O薄膜是六角纤锌矿结构,具有沿与衬底垂直的C轴的择优取向;随着样品退火温度的升高,(002)衍射峰强度明显增强,衍射峰半高宽(FWHM)由0.86°单调地降低到0.40°,晶粒大小明显增大,最大的高达400nm以上.用TV1900型双光束紫外可见分光光度计测量了淀积在蓝宝石衬底上的Mg<,0.16>Zn<,0.84>O薄膜室温的透射谱,得到可见光区的平均透过率约为95﹪,进而估算出Mg<,0.16>Zn<,0.84>O薄膜的带隙宽度约为3.58eV.
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以五氧化二铌(NbO)为原材料通过络合反应合成了铌的前驱体溶液,并与醋酸铅(Pb(Ac)),醋酸镍(Ni(Ac))混合,于200℃水热条件下进行预反应.水热预产物经进一步煅烧,成功获得了纯钙钛矿相PNN粉体.采用XRD和Raman分析,研究了水热时间,溶液pH值,煅烧温度等条件对PNN粉体相结构的影响,分析了粉体的相结构变化规律.结果表明,经过水热处理的粉体,在900℃煅烧后,形成具有钙钛矿结构P
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