高质量钒掺杂半绝缘碳化硅晶体及其在光导开关上的应用

来源 :2011’全国半导体器件产业发展、创新产品和新技术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ytx200909
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  本文采用上海硅酸盐研究所自制的2英寸(1英寸=25.4 mm)半绝缘6H-SiC晶体开展了光导开关的制备与性能研究。采用PVT法制备了钒掺杂的6H-SiC晶体,晶体结晶质量的高分辨X射线(HR-XRD)摇摆曲线平均半高宽小于20弧秒,电阻率高于109Ω·cm,微管缺陷密度小于10个/cm2;表面加工质量的平均表面粗糙度RMS<0.2 nm。SiC PCSS采用平面型同面电极的制作方式,Ni/Al电极面间距10 mm,采用355 nm的激光作为激发光源,获得了耐压值高于20 kV,导通电阻小于10Ω,上升沿时间2~3ns的高性能SiC PCSS。
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