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采用微波等离子体化学气相沉积法在铜基片上生长金刚石薄膜。针对铜基片的特点，采用涂层法预处理铜基片，扫描电子显微镜给出的结果表明该法能获得有效的成核密度。同时也增强了附着力。结合实验现象分析了金刚石薄膜的内应力。
铜基片上金刚石薄膜的生长研究
【摘 要】
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采用微波等离子体化学气相沉积法在铜基片上生长金刚石薄膜。针对铜基片的特点，采用涂层法预处理铜基片，扫描电子显微镜给出的结果表明该法能获得有效的成核密度。同时也增强了
【机 构】
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中国科学院等离子体物理研究所武汉化工学院材料工程系
【出 处】
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第九届全国等离子体科学技术会议
【发表日期】
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1999年8期
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