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会议论文
高择优取向铜的电化学制备
高择优取向铜的电化学制备
来源 :第十一次全国电化学会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:j395188088
【摘 要】
:
本文研究目的是探讨获得高择优Cu镀层的方法.
【作 者】
:
辜敏
杨防祖
黄令
姚士冰
周绍民
【机 构】
:
汕头大学化学系(广东汕头),厦门大学化学系 固体表面物理化学国家重点实验室(厦门) 厦门大学化学系
【出 处】
:
第十一次全国电化学会议
【发表日期】
:
2001年9期
【关键词】
:
铜镀层
电沉积
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本文研究目的是探讨获得高择优Cu镀层的方法.
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