原子层沉积制备限域纳米粒子及其应用

来源 :第九届中国科学院“百人学者论坛”学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zkry123
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原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)是一种高级薄膜制备技术,相对于传统工艺而言,其在沉积层的均匀性、阶梯覆盖率、保形性、重复性等方面都具有明显的优势.利用ALD可实现单层、亚单层、埃级别的沉积物厚度控制,并能够在复杂、多孔结构材料上沉积薄膜或者纳米粒子,对样品形貌无特殊要求.本报告主要介绍以一维纳米材料作为模版,制备氧化物纳米管(如氧化铝、氧化钛、多孔氧化铝等)包覆(限域)的金属纳米粒子(如金、铜、镍等),以及得到的复合纳米结构体现出的独特的物理、光学、以及催化性质等.
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