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周期和非周期光子薄膜器件制备过程中,其材料的组份可为SiO2,TiO2,ZrO2,Al2O3,Ta2O5,HfO2,ZnO,SnO2,V2O5等高纯氧化物介质材料,但在高温和不同生长条件下,它们会发生氧键断裂和缺损,产生如SiOx,TiOx,TaOx等化学键不确定结构,发生富氧和缺氧等现象,介质薄膜的光学常数将发生改变,这是影响薄膜材料器件光谱特性及其性能稳定的关键因素.