H<,2>和H<,2>S在MoS<,2>、NiMoS催化剂上的吸附与脱附

来源 :第4届全国工业催化技术及应用年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sm3618
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主要介绍了无助剂及有Ni为助剂的MoS<,2>催化剂表面上,氢化物种的形成过程及其结构的稳定性。在稳定的MoS<,2>(1010)Mo-边缘上,H<,2>脱附形成─SH基,该过程是一放热过程并极易发生;在部分Ni促进的表面上(1010),H<,2>分子脱附形成表面─SH基和Mo─H基或Ni─H基,该过程是一放热过程,所需能量高于无助剂的(1010)Mo-边缘的情况;在被完全促进的Ni-边缘上,H<,2>解离吸附是一放热过程,脱附形成一对Ni─H和─SH或两个Ni─H物种則是吸热过程;H<,2>S可以稳定的吸附于部分或全部被Ni促进的Mo─边缘表面的Ni空位上,而表面─SH可由吸附的H<,2>S脱附解离形成。
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