P型Si上电沉积Ni-W-P合金薄膜

来源 :中国表面工程协会电镀分会第五届年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：imimim2

【摘要】

：

首次采用恒电流电沉积方式在P型Si(111)上制备出Ni-W-P合金薄膜。考察了电沉积条件对镀层组成的影响，确定了制备表面致密、具有良好结合力的Ni-W-P合金薄膜的最佳工艺条件。

【作者】

：

姚素薇王宏智张卫国

【机构】

：

天津大学应用化学系

【出处】

：

中国表面工程协会电镀分会第五届年会

【发表日期】

：

1998年期

【关键词】

：

电沉积条件合金薄膜制备表面工艺条件镀层组成沉积方式结合力致密流电考察

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